CVD即化學氣相沉積，是利用氣態物質，在固體表面進行化學反應，生成固態沉積物的工藝過程。CVD是當今半導體工業中應用最為廣泛的用來進行沉積制備所需薄膜材料的技術，如半導體薄膜、介質薄膜、金屬薄膜等，在CVD制成中，根據不同的薄膜材料需要向反應室內通入兩種或兩種以上的氣態原材料，特氣氣體源包括：氫氣、氮氣、氧氣、氬氣、氯化物、硼化氫、金屬有機化合物。
CVD過程中從反應室中排出的廢氣，即稱為VCD廢氣。其成分包括未反應的原料氣和沉積過程生成的新氣態產物。CVD廢氣主要包括五大類，還可能伴隨有顆粒物污染物，其中有害氣體的成分復雜且含量極高，因此CVD廢氣必須要進行有效的治理后，方可排放，否則將嚴重污染大氣環境和危害人類身體健康。
天得一致力于工業廢氣治理技術的研究與創新20年，基于本身豐富的工業廢氣治理實踐，為半導體企業提供專業的CVD廢氣治理解決方案。我們將根據客戶CVD廢氣成分，有針對性的進行治理方案設計。在為國內某大型半導體企業提供CVD廢氣治理服務中，通過分析，其CVD廢氣中主要含有氫氣、甲基三氯硅烷（MTS）、甲烷、丙烷、丙烯、HCI和HF等危險性氣體，我們設計了Local Scrubber+洗滌塔+除霧+活性炭吸附組合工藝對CVD廢氣進行治理。
CVD廢氣首先經過Local Scrubber凈化系統進行處理，Local Scrubber凈化系統與CVD生產系統在智能系統的控制下進行聯動，實現對一般有機廢氣和毒腐氣體進行智能切換，CVD廢氣在經Local Scrubber凈化系統處理后，排入中央廢氣處理系統，與一般有機廢氣混合在一起進行集中處理后達標排放。整套系統通過多技術的綜合應用，實現對CVD廢氣進行安全、高效、穩定的處理。
天得一堅持技術環保，為客戶創造價值，助力半導體企業綠色低碳生產，為人類可持續發展貢獻力量。
